彩色濾光片制造方法包括染色法、顏料分散法、印刷法、電鍍法、噴墨法等，其中顏料分散法由于在顏色特性、質(zhì)量、可度等方面均占有優(yōu)勢(shì)，因此成為目前彩色濾光片之主流制作方式，而所謂顏料分散法之彩色濾光片制造工程，包括黑色矩陣工程、RGB工程、后工程、出貨工程，首先在黑色矩陣工程，是先在無堿之硼玻璃基板上以濺鍍形成氧化鉻/鉻之低反射二層膜，作為基板使用，此低反射二層膜即稱為Metal Black，然后再將Metal Black側(cè)之正型光阻以旋轉(zhuǎn)涂布，再經(jīng)由黑色矩陣的光罩圖案，照射紫外線并加以曝光、光阻顯影后，將Metal Black蝕刻，形成黑色矩陣(BM)圖案，之后在黑色矩陣之圖案形成后，接著再到RGB工程，所謂RGB工程就是在開口部形成R、G、B三色圖案的工程，首先將著色為R的彩色光阻以Spin涂裝，經(jīng)由R用圖案光罩，照射紫外線并曝光。再使用堿性系顯影劑將未曝光部份去除，形成顏色用的R圖案，再施于200℃以上的后烤，使圖案具有耐藥性，接著以形成R圖案相同的工程重復(fù)在G及B上，各圖案之間均有黑色矩陣加以隔開，此功能是為增加顯示時(shí)之對(duì)比度及避免雜色光產(chǎn)生。接著在后工程方面，是形成TFT Array基板之相對(duì)電極的ITO透明電極層，即為彩色濾光片，最后，出貨工程即為最終檢查及捆包。

　　彩色濾光片制程技術(shù)關(guān)鍵須注意的是RGB三色間的段差，段差會(huì)影響到液晶表現(xiàn)，段差如過大則顯示會(huì)有斷層產(chǎn)生，另外，RGB工程為高溫制程，因此原材料選擇須有耐藥性不會(huì)發(fā)生衰退，再則BM主要為隔絕RGB三顏色，為提高顏色對(duì)比的關(guān)鍵，且BM一般均要求低反射，反射愈低愈好，色彩表現(xiàn)也會(huì)愈好。